这里诞生的刻蚀机打入台积电5纳米产线，半小时车程内串起设计、制造、封测全链条，

　　2024年，上海集成电路产业规模首次突破3900亿元大关，占全国总量的四分之一。

　　2024年全球集成电路产业综合竞争力百强城市排名中，上海已超越美国硅谷中心的圣何塞、日本东京和新加坡，跃居全球第四位。

　　2024年中芯国际28纳米生产线万片晶圆，全球成熟制程份额飙升至80%。

　　芯片制造如同微观雕刻艺术，光刻机画出电路图案，刻蚀机则要精准剔除多余部分。

　　中微公司董事长尹志尧打了个生动比喻：“如果说光刻决定了水平精度，那么刻蚀就决定了垂直精度，二者都在挑战制造极限。”

　　因为完全自主创新，当中微造出首台国产刻蚀机时，竟被美国巨头起诉“窃取商业机密”。

　　2023年，中微迎来历史性突破：刻蚀设备零部件国产化率已达80%以上，并在2024年下半年实现100%国产化。

　　速度之快令业界震惊，从美国加强出口管制到基本实现国产替代，仅用了半年多时间。

　　更惊人的是，超过200台反应台进驻国际最先进的5纳米芯片生产线，中国刻蚀机正式跻身全球第一梯队。

　　设计、制造、封装企业被压缩在30分钟车程内，形成全球罕见的超高效供应链。

　　韦尔半导体的芯片设计图，半小时后就能送到中芯国际张江工厂流片，完成制造的晶圆，转眼运到安靠封测厂封装。

　　2025年车规芯片产值将超800亿，松江保障硅片供应，闵行提供清洗设备支持。

　　长期以来，涂胶显影设备90%以上的全球份额被国外巨头垄断，国产化率不足5%。

　　2024年，江西维易科半导体带来破局利器：UTW2000Z涂胶显影设备。

　　这款设备硬件国产化率超90%，软件100%自主开发，成功适配国产光刻机，填补了国产光刻工艺链核心装备的空白。

　　沪苏皖联合出台《长三角半导体产能互助条例》，整合287台光刻机形成动态调度池。

　　无锡华虹闲置40nm产线承接合肥晶合集成订单后，设备利用率从63%飙升至89%。

　　海关总署试点的“芯片护照”系统更让芯片流转时间从72小时压缩至8小时，单次报关成本从2.4万降至0.3万。

　　2000年，张汝京放弃台积电股票，带着三百工程师奔赴上海张江时，农田中竖起的打桩机曾被行业视为笑线英寸产线%良率，这些“不可能”的数字背后，是通宵调试设备的工程师，是政府大胆押注的勇气。

　　1. 汽车之家：《不要台积电的股票，要中国芯！张汝京的U盘引爆清华课堂》

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